Nguồn phóng điện phát sáng mang lại một số lợi thế bao gồm

• Hiệu chuẩn tuyến tính đơn giản khi so sánh với các nguồn khác
• Sự kích thích có kiểm soát xảy ra xa bề mặt mẫu
• Giảm tiêu thụ tài liệu tham khảo
• Tự động làm sạch giữa các lần phân tích giúp tiết kiệm thời gian và giảm thiểu hiệu ứng ma trận để tăng hiệu suất phân tích

Hệ thống phát hiện đảm bảo tính ổn định, tính linh hoạt và hiệu suất, với các thông số kỹ thuật sau:

• Phạm vi phủ sóng toàn bộ bước sóng từ 160 nm đến 460 nm
• Độ phân giải 50 pm (0,050 nm) để phân biệt ngay cả những đặc điểm phức tạp nhất của quang phổ khối

Có sẵn Hỗ trợ phân tích CDP tùy chọn.

• Phân tích độ sâu thành phần của các mẫu rắn dẫn điện
• Lý tưởng cho việc mạ, mạ kẽm, ốp và các phương pháp xử lý bề mặt dẫn điện khác

Ứng dụng