THÔNG SỐ KỸ THUẬT
Thiết bị phân tích phổ phân cực ellip UVISEL Plus có sẵn 2 cấu hình
190nm UVISEL Plus mở rộng dải phổ tới 2100 nm |
|
|
190 nm UVISEL Plus 920 nm |
Thông số kỹ thuật
- Dải phổ: từ 190 tới 920 nm │Tùy chọn mở rộng NIR tới 2100 nm
- Phát hiện: Máy đơn sắc độ phân giải cao kết hợp với các detector độ nhạy lớn
Cấu hình thủ công
- Kích thước điểm: 0.05 – 0.1 – 1 mm (pinhole)
- Bệ mẫu: 150 mm, chiều cao (20mm) và độ nghiêng điều chỉnh thủ công
- Máy đo góc: Góc điều chỉnh thủ công từ 55° tới 90° với các bước 5°
Cấu hình tự động
- Kích thước điểm điều chỉnh thủ công hoặc tự động: 0.05 - 0.1 - 1 mm hoặc 0.08 - 0.12 - 0.25 - 1.2 mm (pinhole)
- Bệ mẫu tự động: bệ mẫu XY kích thước 200x200mm, 300x300 mm XY, điều chỉnh thủ công chiều cao (4mm) và độ nghiêng , bệ mẫu XYZ, bệ mẫu theta
- Máy đo góc: Điều chỉnh góc tự động từ 40° tới 90° bằng các bước 0.01°
Máy đo góc tích hợp
- Góc tới điều chỉnh thủ công: 35° tới 90° bằng bước 5°
- Giá giữ mẫu: điều khiển chiều cao trục Z thủ công 150mm, 20mm
- Hệ thống chuẩn trực tự động để căn chỉnh mẫu chọn thêm
- Kích thước: R: 25cm; C: 35cm; S: 21 cm
Cấu hình In-situ
- Tiêu chuẩn cơ khí: Mép bích CF35 hoặc KF40
- Dễ dàng chuyển đổi giữa cấu hình in-situ và ex-situ
- Vui lòng click vào đây để có thêm thông tin
Tùy chọn
- Phụ kiện: cell điều khiển nhiệt độ, cell chứa mẫu lỏng, cell điện hóa, module liquid cell, electrochemical cell, module chiết suất để đo hệ số phản xạ tại góc tới 0° incidence...
- Quan sát: CCD camera
Hiệu suất
- Độ chính xác: Ψ= 45°±0.01° và Δ=0°±0.01° đo được trong cấu hình truyền thẳng trong không khí1.5 – 5.3 eV
- Độ lặp lại: NIST 1000Å SiO2/Si (190-2100 nm): d ± 0.1 % – n(632.8nm) ± 0.0001
Đánh giá
Chưa có đánh giá nào.